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BL超稳态功能性氧化膜
该氧化膜是双电解成膜生成的独特的功能性膜层，专为针对光刻机行业开发。既抵抗(193nm、248nm)紫外线，又具低反射率特性，对光刻机行业减低铝合金件表面落尘和释气性至关重要。
作为Bilatal功能性氧化膜国产化替代的三泳方案，BL超稳态功能性氧化膜性能全面对标荷兰Bilatal膜。目前BL膜已在上海微电子与深圳新凯莱光刻机上获得应用。
如需进一步了解产品性能，请先获取样品， 联系我们！
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该氧化膜是双电解成膜生成的独特的功能性膜层，专为针对光刻机行业开发。既抵抗(193nm、248nm)紫外线，又具低反射率特性，对光刻机行业减低铝合金件表面落尘和释气性至关重要。
作为Bilatal功能性氧化膜国产化替代的三泳方案，BL超稳态功能性氧化膜性能全面对标荷兰Bilatal膜。目前BL膜已在上海微电子与深圳新凯莱光刻机上获得应用。
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BL超稳态功能性氧化膜
该氧化膜是双电解成膜生成的独特的功能性膜层，专为针对光刻机行业开发。既抵抗(193nm、248nm)紫外线，又具低反射率特性，对光刻机行业减低铝合金件表面落尘和释气性至关重要。
作为Bilatal功能性氧化膜国产化替代的三泳方案，BL超稳态功能性氧化膜性能全面对标荷兰Bilatal膜。目前BL膜已在上海微电子与深圳新凯莱光刻机上获得应用。
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